双面研磨抛光机

UNIPOL-160D

本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。

1、水：设备配有上水口及下水口，需自行连接自来水及排水。

2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地

3、气：无

4、工作台：尺寸800mm×600mm×700mm，承重200kg以上

5、通风装置：不需要

1、转速采用手动调整变频器频率的控制方式。

2、可同时对4片尺寸为Ø2" 的基片进行双面研磨抛光。

3、可进行薄片的双面减薄。

4、是双面研磨抛光Si、 Ge 、氧化物单晶基片的理想工具。

1、电源：220V  50Hz

2、功率：550W

3、磨抛盘：Ø225mm

4、磨抛盘转速：0-72rpm内无级可调

5、样件尺寸：Ø50mm（max），厚度≤15mm

6、上磨抛盘重量：3.5kg

尺寸：650mm×500mm×580mm；重量：80kg

可根据您的需要制作不同开孔的载样齿轮。